光刻機是什麼 什麼是光刻機
簡要回答
光刻機又被稱之爲掩模對準曝光機曝光系統,光刻系統等等。它是由製造芯片的核心裝置之一,光刻機採用類似照片,沖印的技術,把眼模板上的精細圖形,透過光線的曝光印製到硅片上。目前光刻機又分爲接觸式曝光,接近式曝光和投影式曝光。
光刻機的工作原理
通常光刻機是透過一系列的光源,能量,形狀,控制手段,將光束透射過,畫着線路圖的眼膜,經物鏡補償各種光學誤差,將線路圖成比例縮小以後映射到硅片上,然後再使用化學方式顯影得到刻在硅片上的電路圖。
使用光刻工藝的注意事項
一般在使用光刻工藝時要經歷硅片,表面清洗,烘乾,塗底,旋塗,光刻膠對準曝光顯影激光刻軸等等工藝。另外光刻機的製造和維護需要使用到高度的光學以及電子基礎,所以光刻機在世界上只有很少一部分商家能夠掌握相關的細節。
光刻機的用途
光刻機其實可以用於生產芯片,也可以用於封裝,當然光刻機可以運用在LED製造領域。一般使用光刻機的時候,用於生產芯片的光刻機是中國在半導體設備製造上的短板。
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